光引导原位合成技术

光引导原位合成照相平板印刷技术是平板印刷技术与DNA和多肽固相化学合成技术相结合的产物，可以在预设位点按照预定的序列方便快捷地合成大量寡核苷酸或多肽分子。该技术由美国的Affymetrix公司开发，通过运用固相化学，光敏保护及光刻技术，合成排列规则、种类繁多的寡核苷酸阵列。
此技术的简要过程为：首先使支持物羟基化，并利用光敏保护基保护核苷酸的5′羟基，光照射使之脱保护，DNA的合成只发生在脱去保护基的地方，光照的区域即为合成的区域，合成过程可由一系列光刻掩膜或面具(mask)控制。这样，光通过光刻掩膜照射到支持物上，受光部位的羟基解保护，进而与单体分子共价结合，发生偶联的部位反应后仍旧带有光敏保护基团。
光引导原位合成技术的主要优点是合成效率高，电阵密度高。可以用很少的步骤合成大量的探针阵列，并且密度可达每平方厘米100万个探针。
缺点是设备昂贵，技术复杂，反应产率低。即，这种制备方法需要预先设计，制造一系列面具，造价较高，且制造过程中采用了光脱保护方法，面具孔径较小时会发生光衍射现象，制约了寡核苷酸密度的提高；同时光脱保护不彻底，每步产率只有92～94％ ，只能合成30nt左右的寡核苷酸。在此基础上，McGall将光引导合成技术与半导体工业所用的光敏抗蚀技术结合，以酸作为脱保护剂，解决了光衍射的难题，提高了芯片的密度，并使产率提高到99% ，但制造工艺复杂程度增加了许多。。
  分享到：